电屏蔽效能;SH——磁屏蔽效能;
1、屏蔽房的要求 E0(H0)——没有屏蔽体时空间某点的电场强度(磁 屏蔽是对电磁场的屏蔽(包含磁场、电场、平面波、 场强度); El(H1)——有屏蔽体时被屏蔽空间在该点的电场强 微波),其电磁波覆盖范围为:lokHz~10GHz。计算机、通 信电子设备在正常工作时都会产生一定强度的电磁,该电 度(磁场强度)。
磁波可能会对其它设备产生干扰或被专用设备所接收;屏蔽室根据其要求不同、检测的标准不同,衰减量一 蔽室能有效地抵制工业空间电磁场对室内的干扰,更能防 般可达30~100分贝不等。 止机密电子信息的泄露。 由于屏蔽室内通常有人员和设备在里面工作,因此屏 屏蔽房就是利用屏蔽的原理,通过由金属制成的壳、 蔽室六面密闭的同时,必需留有人员及设备进出的屏蔽门, 盒、板等屏蔽体,将电磁波局限于某一区域内的一种方法, 有良好的通风、室内所需的电源、信号的进出、必备的室 使其场的能量从一面传到另一面受到很大的衰减。
由于金 内装修,以确保屏蔽室能正常工作。因此影响屏蔽室屏蔽 融板(网)对入射电磁波的吸收损耗、界面反射损耗和板 效能主要有以下因素:屏蔽室所用材料、屏蔽材料的接缝 内反射损耗,使其电磁波的能量大大的减弱,而使屏蔽室 处理、屏蔽门、通风窗、屏蔽窗、电源线的滤波处理、信 产生屏蔽作用。将电磁波限制在一定的空间范围内或阻碍 号线的屏蔽处理等。 外界电磁波的干扰。
2、传统洁净室的特征 屏蔽室的屏蔽性能以屏蔽效能SE(Shieldin异E乳ctive— ness)来进行考量。为辐射的射频电磁能量试图通过一个 洁净室的主要控制对象为对尘埃粒子数量的控制,使 屏蔽时所遭受到的能量总衰减值(dB) 其所含尘埃浓度控制在要求的一定范围之内;对室内温度、 SE=R+A+K 湿度、风速等进行有效的监测与控制,达到工艺或操作人 式中:R一反射损耗,表示在屏蔽材料表面上对入射能 员所要求的指标。洁净室的主要性能指标有:洁净度、风 量的反射; 速、温度、相对湿度、照度、噪声分贝数等。
|