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分享真空镀膜设备的设计与工艺原理

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发表于 2013-7-3 16:46:29 | 显示全部楼层 |阅读模式
空心阴极离子镀原理:在本底真空为高真空的条件下,由阴极中通入氩器气(1 -10-2)在阴极与辅助阳极之间加上引弧电压,使氩气发生辉光放电,在空心阴极内产生低压等离子体放电,阴极温度升高到2300-2400K时,由冷阴极放电转为热阴极放电,开始热电子发射,放电转为稳定状态。通入反应气体,可以制化合膜。

空心阴极离子镀膜设备配备多支空心阴极枪,它利用钽管管内辉光放电的空心阴极效应,导致钽管升温至白炽状态强烈发射电子,形成弧光放电,产生高密度的等离子体电子流,引向干锅使镀料蒸发、汽化、电离(或通过反应气体反应)在工件上沉积成膜。该设备配有特制工件装夹机构,可实现工件自转,配有PID温度控制器,炉温控制精度为±1℃。


空心阴极离子镀的等离子体浓度大,离化率高,所沉积膜层结合强好,组织细密光亮,颜色鲜艳。特别适用于工模具镀硬质膜,也可用于五金装饰镀膜。可镀TiN、TiCN、TiC等。


东莞市汇成真空科技有限公司可根据用户要求设计各种规格型号的真空镀膜机。真空机组及电控系统也可根据用户要求进行设计配置。
详情请致电我司13316689188 李国栋 经理


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